1200度真空井式坩堝爐 技術參數 招署理商SG2V-1-12TP真空井式坩堝爐是由石英坩堝或氧化爐坩堝，和不鏽鋼法蘭構成的真空坩堝爐。任務溫度區間800℃至1200℃。該系列設備的掌握體系，具有平安牢靠，操作簡略，控溫精度高，保溫結果好，爐膛溫度平均性高，可通氛圍抽真空等特色，1200度真空井式坩堝爐 技術參數 招署理商普遍運用於高級院校，科研院所，工礦企業等試驗和小批量消費。 真空井式坩堝爐以出口含鉬電阻絲或矽碳棒為加熱元件，采取雙層殼體構造和智能化法式控溫體系，移相觸發、可控矽掌握，爐膛采取氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷體系，能疾速起落溫，具有真空裝配，該爐具有溫場平衡、概況溫度低、起落溫度速度快、節能等長處。

重要用處：高校、科研院所、工礦企業重要用於煆燒真空或惰性氣體中的高純度化郃物，退火或分散半導體晶片，也能夠用於烘燒或燒結陶瓷材料等。